根據(jù)法拉第原理測(cè)量。其過(guò)程類似于電鍍，但電化學(xué)反應(yīng)的方向相反，是電解鍍。按照鍍層/基體的組合，選擇電解液注入電解池。將電解池置于被測(cè)樣板上。電解池和被測(cè)樣板之間嵌入密封墊圈，其作用一是確定測(cè)量面積，例如1mm，二是防止電解液外泄。電流通過(guò)電解液，在一定的面積下產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)。鍍層厚度就直接顯示在數(shù)字顯示器上。
GALVANOTEST 2000電解膜厚儀特點(diǎn)是：
• 可測(cè)實(shí)際應(yīng)用的**鍍層 GALVANOTEST 可以測(cè)量 2000 可以測(cè)量70種以上鍍層/基體組合 ● 可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層 ● 可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線、線狀零件 ● 預(yù)置9種金屬的測(cè)量參數(shù)：Cr鉻、Ni鎳、Cu銅、黃銅、Zn鋅、Ag銀、Sn 錫、Pb鉛、Cd鎘。 ● 用戶可另設(shè)置1種金屬的測(cè)量參數(shù) ● 測(cè)量機(jī)構(gòu)： 帶氣泵 ● 測(cè)量面積： 密封墊 8 mm2 ● 密封墊 4 mm2 ● 密封片 1 mm2 ● 電解杯 0.25-16 mm2 （可選件） ● 測(cè)量參數(shù)*優(yōu)化調(diào)整： 除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào) ● 根據(jù)金屬和測(cè)量表面可直接調(diào)整系數(shù) ● 可用厚度標(biāo)準(zhǔn)樣板校準(zhǔn) ● 可調(diào)整終點(diǎn)電壓，以抗干擾，適應(yīng)鍍層/基體之間的合金 ● GALVANOTEST的數(shù)據(jù)存儲(chǔ) 可存儲(chǔ)不同金屬測(cè)量參數(shù)的數(shù)目 10 可存儲(chǔ)的讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 2000 儀器斷電后可保持**校準(zhǔn)值、讀數(shù)、統(tǒng)計(jì)值。 ● 統(tǒng)計(jì)計(jì)算： 顯示6種統(tǒng)計(jì)值：均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、變異系數(shù)、*大、*小值、讀數(shù)個(gè)數(shù) ● 立即或稍后顯示統(tǒng)計(jì)值 ● 立即或稍后打印讀數(shù)和統(tǒng)計(jì)值 顯示、打印年、月、日、時(shí)、分 ● 用于外設(shè)的計(jì)算機(jī)接口： MINIPRINT 微型打印機(jī)接口 ● RS-232，PC計(jì)算機(jī)接口 ● 連接x-t計(jì)錄儀模擬電壓輸出接口 ● 電解液飽和報(bào)警指示 測(cè)量的不確定性： 5%，在8mm2面積下，經(jīng)校準(zhǔn) ● 電源： 110/220V，50/60HZ，10W ● 測(cè)量范圍： *大測(cè)量范圍：0.05-75μm ●
• 利用庫(kù)侖電量分析原理，測(cè)量鍍層、多層鍍層
• 符合*標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177
GALVANOTEST 2000電解膜厚儀技術(shù)參數(shù)：